การก้าวย่างเข้าสู่ศตวรรษที่ 21 ได้ก่อกำเนิดหลักการ ทฤษฎี และองค์ความรู้มากมายซึ่งได้นำมาสู่การพัฒนาเทคโนโลยีที่ก้าวหน้าที่สร้างความสะดวกสบายและความรวดเร็วให้กับมนุษยชาติ หนึ่งในเทคโนโลยีที่ได้เข้ามาเป็นส่วนหนึ่งของชีวิตของมนุษย์ในปัจจุบันอย่างเห็นได้ชัดนั้นก็คือ นาโนเทคโนโลยี ซึ่งเป็นเทคโนโลยีที่ประยุกต์ใช้องค์ความรู้จากหลากหลายศาสตร์ เช่น ฟิสิกส์ เคมี วิศวกรรมศาสตร์ หรือวิทยาศาสตร์ประยุกต์ เพื่อจัดการ การสร้างอปกรณ์ และการสังเคราะห์วัสดุในระดับอะตอม โมเลกุล ชิ้นส่วน และโครงสร้างที่มีขนาดเล็กในระดับนาโนเมตร เพื่อพัฒนาวัสดุหรืออุปกรณ์ให้มีคุณสมบัติ หน้าที่ ที่พิเศษขึ้นทั้งทางด้านกายภาพ เคมี และชีวภาพ สำหรับตอบสนองต่อการดำรงอยู่ของมนุษย์ให้มีความปลอดภัย และสะดวกสบายมากขึ้น

          ห้องปฏิบัติการ Microsystems electronics and control systems (MEMs) ระบบลำเลียงแสงที่ 6 Deep X-ray Lithography สถาบันวิจัยแสงซินโครตรอน (องค์การมหาชน) ซึ่งเป็นห้องปฏิบัติการที่มีอุปกรณ์ เครื่องมือ สำหรับรองรับการผลิตชิ้นส่วนหรือโครงสร้างในระดับไมโครเมตร ได้พัฒนาศักยภาพของห้องปฏิบัติการเพื่อรองรับการเปลี่ยนแปลงของเทคโนโลยีเข้าสู่โลกของนาโนเทคโนโลยี โดยได้ติดตั้งเครื่อง FE-SEM (model MIRA3) สำหรับสร้างโครงสร้างระดับนาโนเมตรด้วยกระบวนการ Electron beam lithography ซึ่งเป็นการใช้ลำโฟกัสของอิเล็กตรอนเพื่อ วาดลวดลายในระดับนาโนเมตรลงบนพอลิเมอร์ตัวกลาง สำหรับถ่ายทอดลวดลาย หรือเรียกว่า สารไวแสง

         เมื่อสารไวแสงทำปฏิกิริยากับอิเล็กตรอนและถูกล้างด้วยน้ำยาขึ้นรูป (Developer) จะทำให้เราได้รับโครงสร้างสารไวแสงในระดับนาโนเมตร สำหรับเติมโลหะ เพื่อสร้างโครงสร้างโลหะในระดับนาโนเมตร ซึ่งในปัจจุบันเราสามารถพัฒนาศักยภาพจนสามารถสร้างโครงสร้างโลหะขนาดเล็กในระดับ 100 นาโนเมตร ด้วยกระบวนการ Electron beam lithography เพื่อรองรับงานวิจัยขั้นแนวหน้าและเทคโนโลยีขั้นสูง

 

  

บทความโดย

นายเกียรติศักดิ์ ศรีโสม นักวิทยาศาสตร์ประจำห้องปฏิบัติการ
ดร.พัฒนพงศ์ จันทร์พวง ผู้จัดการระบบลำเลียงแสง