การทำความสะอาด (Cleaning)

          วิธีการทำความสะอาดพื้นผิวของตัวอย่างสามารถแบ่งออกเป็น 2 วิธี คือ การทำความสะอาดแบบเปียก (Wet Cleaning) เป็นการทำความสะอาดโดยใช้ของเหลว เช่น น้ำ สารเคมีต่างๆ ส่วนการทำความสะอาดแบบแห้ง (Dry Cleaning) เป็นการทำความสะอาดเพื่อกำจัดสิ่งสกปรกหรือสิ่งแปลกปลอมที่ไม่ต้องการออกไปโดยไม่ใช้น้ำ ซึ่งในส่วนของห้องปฏิบัติการ Microsystems และห้องปฏิบัติการสะอาด (clean room) ณ ระบบลำเลียงแสง 6: Deep X-ray Lithography สถาบันวิจัยแสงซินโครตรอน (องค์การมหาชน) ปัจจุบันได้รองรับการทำงานในส่วนของการทำความสะอาดพื้นผิวของตัวอย่างทั้งแบบเปียกและแบบแห้ง ดังนี้ (อ่านข้อมูลเพิ่มเติมได้ดังเอกสารแนบ)

• • • • ทำความสะอาดกระจก (glass cleaning)
      • ทำความสะอาดแผ่นซิลิกอน (silicon wafer cleaning)
      • ทำความสะอาดแผ่นกราไฟต์ (graphite cleaning)
      • ทำความสะอาดลวดโลหะ (metal wire cleaning)
      • ทำความสะอาดด้วยพลาสม่า (plasma cleaning)

 

 

[1]          Ankur Verma, On the Substrate Cleaning and Related Issues, Assistant Professor

              at Indian Institute of Technology (2009).

[2]          Poco Graphite, Cleaning Recommendations, Machined Graphite Parts (2014).

[3]         Jose Moran-Mirabal, Piranha Cleaning-Glass Surfaces, Moran-Mirabal Research

             Group (2014).