ระบบลำเลียงแสงที่ 6 Deep X-ray Lithography (DXL)
ระบบลำเลียงแสงที่ 6 Deep X-Ray Lithography หรือ DXL เป็นหนึ่งในระบบลำเลียงแสงของสถาบันวิจัยแสงซินโครตรอน โดยใช้ประโยชน์จากแสงซินโครตรอนในย่านรังสีเอกซ์ สำหรับสร้างโครงสร้าง 3 มิติ ในระดับไมโครเมตร จำพวกอุปกรณ์และชิ้นส่วนขนาดเล็ก (micro parts) ชนิดต่างๆ นอกจากนี้ยังเป็นห้องปฏิบัติการระดับอาเซียน ที่ให้บริการแสงซินโครตรอนสำหรับงานวิจัยและพัฒนาผลิตภัณฑ์ใหม่ๆ ที่ต้องการเทคโนโลยีขั้นสูงในงานศึกษาและปรับปรุงคุณภาพสินค้า
ซึ่งระบบลำเลียงที่ 6 ประกอบไปด้วยพื้นที่ 3 ส่วนสำคัญ (รูปที่1) คือ front end, X-ray screening and transportation และ end station หรือสถานีทดลอง แสงซินโครตรอนที่เกิดจากการเลี้ยวโค้งของอิเล็กตรอนภายใต้สนามแม่เหล็กที่ bending magnet 6 (BM6) จะถูกลำเลียงผ่าน photon mask 1 ซึ่งทำหน้าที่กำหนดขนาดความกว้างของแสงซินโครตรอนที่ออกมาจาก BM6 ต่อจากนั้น แสงซินโครตรอนจะถูกลำเลียงผ่าน photon beam position monitoring (PBPM) และ heat absorber shutter (ABS) ซึ่งทำหน้าที่ปิดกั้นแสงซินโครตรอนไม่ให้ผ่านเข้าไปในระบบลำเลียงแสง ระบบลำเลียงแสงส่วนนี้ถูกแยกออกจากระบบลำเลียงแสงส่วนถัดไปด้วย pneumatic valve 1 (PV1) เมื่อเปิด PV1 แสงซินโครตรอนจะตกกระทบกับกระจก collimating mirror (CM) ซึ่งทำหน้าที่รวมลำแสงซินโครตรอนให้ขนานกัน ผ่าน PV2 ซึ่งทำหน้าที่แยกส่วนของกระจกกับระบบถัดไป เมื่อ PV2 เปิด แสงที่ออกจากกระจกจะเข้าสู่ beam shutter (BS) ซึ่งทำหน้าที่กั้นรังสีทุติยภูมิเข้าสู่ระบบลำเลียงแสงบริเวณโถงทดลอง หลังจากนั้นแสงซินโครตรอนจะถูกลำเลียงผ่านท่อลำเลียงเข้าสู่บริเวณโถงทดลอง ซึ่งมี PV3 ทำหน้าที่แยกระบบลำเลียงแสงบริเวณ front end ออกจากบริเวณโถงทดลอง ซึ่งเมื่อเปิด PV3 แสงซินโครตรอนจะผ่านเข้าสู่ wire scan และ screen ซึ่งเป็นอุปกรณ์ที่ใช้ในการตรวจวัดขนาดของลำแสงที่ออกจากกระจก ต่อจากนั้นแสงซินโครตรอนจะถูกคัดกรองด้วย Be window 1 เพื่อคัดกรอกแสงที่มีพลังงานในย่านรังสีเอกซ์ (2-10 keV) ผ่าน PV4 และ PV6 ตามลำดับ หลังจากนั้น รังสีเอกส์จะถูกลำเลียงผ่าน Be window 2 ซึ่งทำหน้าที่คัดกรองรังสีเอกซ์และแยกระบบลำเลียงแสงในส่วนของโถงทดลองออกจากส่วนสถานีวิจัย และผ่าน PV7 เข้าสู่ X-ray scanner สำหรับใช้ในกระบวนการX-ray lithography
![]() |
|
![]() |
![]() |
รูปที่ 1 องค์ประกอบของระบบลำเลียงแสงที่ 6 DXL |
คุณลักษณะของ ระบบลำเลียงแสง 6 : Deep X-ray Lithography (DXL)
Electron energy |
1.2 GeV |
Transmitted band-pass spectrum |
2 keV - 10 keV |
Source |
1.44 T Bending magnet |
Horizontal of beam size |
90 mm |
Vertical of beam size (not bending mirror, P=0.0 MPa) |
5.35 mm |
Vertical of beam size (bending mirror, P=0.6 MPa) |
3.75 mm |
Photoresist thickness |
5 µm - 1300µm for SU-8 |
Sample rotation |
360° |
Tilt angle of sample |
±60° |
Scanning speed (vertical speed) |
2.87 mm/sec |
Scanning length |
-60 mm to +60 mm |