 |
Electron beam Evaporation เป็นอีกหนึ่งในเทคนิคการเคลือบฟิล์มบาง หลักการทำงานจะมี electron source สร้างลำอิเล็กตรอน ลำอิเล็กตรอนที่สร้างขึ้นจะถูกเร่งให้มีพลังงานจลน์สูงและพุ่งไปยังวัสดุ เมื่อกระทบกับวัสดุ อิเล็กตรอนจะสูญเสียพลังงานอย่างรวดเร็ว พลังงานจลน์ของอิเล็กตรอนจะถูกแปลงเป็นพลังงานความร้อน พลังงานความร้อนทำให้วัสดุละลาย ระเหยกลายเป็นไอ ไอที่เกิดขึ้นนั้นสามารถใช้เคลือบพื้นผิวได้ |
| การสะสมไอทางกายภาพของขบวนการ Electron beam Evaporation จะให้อัตราการสะสมที่สูงจาก 0.1 ถึง 100 μm/min ที่อุณหภูมิพื้นผิวค่อนข้างต่ำพร้อมประสิทธิภาพการใช้วัสดุที่สูงมาก | |
Chamber ที่ออกแบบโดยสถาบันฯ
ระบบลำเลียงแสงที่ 6:DXL ร่วมกับส่วนงานระบบเชิงกลและส่วนการผลิต หน่วยงานภายใต้สังกัดสถาบันวิจัยแสงฃินโครตรอน (องค์การมหาชน) ได้ร่วมออกแบบและพัฒนา อุปกรณ์ E-beam evaporation โดยได้ทำการออกแบบและจัดทำ Chamber ประกอบและทดสอบการทำงาน ซึ่งปัจจุบันมี Material ที่ใช้นำมาทดสอบ และพร้อมให้บริการ ได้แก่ Aluminium (Al), Nickel (Ni), Titanium (Ti), Gold (Au)
คุณสมบัติ E-beam evaporation
-
-
- Output voltage range 6.5 to 7.5 kilovolts DC (negative)
- Output current (maximum) 750 ma. @7kV
- Compact Linear UHV Sources 4 pocket
- Chamber is in operating range on the order of 1x10-5 torr or better
- Crucible Volume 1.5cc Material evaporate Aluminium (Al), Nickel (Ni), Titanium (Ti), Gold (Au) other
-
ตัวอย่างชิ้นงานที่ใช้เทคนิคการเคลือบฟิล์มบาง E-beam evaporation
นักวิจัย และผู้สนใจขอใช้บริการ จะต้องส่งข้อเสนอโครงการทางเว็บไซต์ www.slri.or.th ระบุส่วนงานที่ขอรับบริการ คือ ระบบลำเลียงแสงที่ 6 หรือ ขอข้อมูลรายละเอียดเพิ่มเติม ที่ทีมวิจัยของ BL6: Deep X-ray Lithography (DXL) อีเมล์: This email address is being protected from spambots. You need JavaScript enabled to view it. หรือ This email address is being protected from spambots. You need JavaScript enabled to view it.
เซ็นเซอร์ (sensor) เป็นอุปกรณ์ตรวจวัดปริมาณการเปลี่ยนแปลงทางฟิสิกส์และมีการประมวลผลเพื่อส่งสัญญาณทางไฟฟ้าออกมา โดยมีความสัมพันธ์กันกับปริมาณหรือความเข้มข้นของสิ่งที่ต้องการตรวจวัด โดยมีหลักก...
Deep X-Ray Lithography หรือเรียกสั้น ๆ ว่า DXL เป็นหนึ่งในระบบลำเลียงแสงของสถาบันวิจัยแสงซินโครตรอน (องค์การมหาชน) ที่นำประโยชน์จากแสงซินโครตรอนในย่านรังสีเอกซ์ (2keV – 10 keV) มาประยุกต์ใ...
QCM (Quartz crystal Microbalance) หรือเรียกอย่างเข้าใจง่ายว่า “ตาชั่งวัดมวลขนาดเล็ก” ในย่านไมโครกรัมถึงนาโนกรัม ซึ่งใช้ประโยชน์จากแร่ควอตซ์ (Quartz crystal) ที่ตัดให้ได้ความหนาที่เหมาะส...
ในปัจจุบันระบบลำเลียงแสงที่ 6 Deep X-ray Lithography โดยห้องปฏิบัติการ Microsystem ซึ่งเป็นหนึ่งในห้องปฏิบัติของสถาบันวิจัยแสงซินโครตรอน (องค์การมหาชน) ได้พัฒนาและประยุกต์ใช้เทคนิคการชุบโลหะด้วยไ...
สถาบันวิจัยแสงซินโครตรอน (องค์การมหาชน) ส่งมอบเครื่องแสดงผลอักษรเบรลล์พระราชทาน เนื่องในโอกาสอันเป็นมหามงคลสมเด็จพระกนิษฐาธิราชเจ้า กรมสมเด็จพระเทพรัตนราชสุดาฯ สยามบรมราชกุมารี ทรงเจริญพระชน...
ห้องปฎิบัติการบนชิป (Lab-on-a-chip) คือห้องปฏิบัติการขนาดเล็กที่อยู่บนแผ่นเวเฟอร์ซึ่งอยู่ในสภาวะที่ถูกควบคุม และเป็นที่สำหรับการวิจัย การทดลอง และการวัดทางวิทยาศาสตร์หรือทางเทคนิค เป็นห้องปฏิบ...
เป็นห้องปฏิบัติการสำหรับการเตรียมตัวอย่างและชิ้นงานเพื่อการผลิตโครงสร้างและชิ้นส่วนจุลภาค รวมไปถึงการผลิตและเคลือบชั้นโลหะด้วยเทคนิคการชุบโลหะด้วยไฟฟ้า ห้องปฏิบัติการมีความพร้อมในการรองรับงานเพ...
ฟิล์มบางเป็นหนึ่งในคุณลักษณะของวัสดุที่ถูกนำมาใช้ประโยชน์ได้อย่างหลากหลาย ทั้งทางด้านอิเล็กทรอนิกส์สำหรับการผลิตวงจรไฟฟ้า การป้องกันแสงแดดโดยการเคลือบชั้นโลหะเพื่อลดความเข้มของแสงอาทิตย์บนกระจก หรือ...
การก้าวย่างเข้าสู้ศตวรรษที่ 21 ของมนุษยชาติ ได้ก่อกำเนิดหลักการ ทฤษฎี และองค์ความรู้มากมายซึ่งได้นำมาสู่การพัฒนาเทคโนโลยีให้กับมนุษยชาติ หนึ่งในเทคโนโลยีที่ได้เข้ามาเป็นส่วนหนึ่งของชีวิตของม...
- ระบบเพาะเลี้ยงด้วงสาคูอัตโนมัติ
- เครื่องแสดงผลอักษรเบรลล์ “สหายลิขิต” ดวงตาแก่ผู้พิการในยุคดิจิทัล
- ระบบลำเลียงแสงที่ 6 Deep X-ray Lithography (DXL) พร้อมให้บริการ Electron Beam Evaporation
- การประยุกต์ใช้เข็มขนาดจิ๋ว (Microneedle patches) เพื่อสนับสนุนงานวิจัยการให้วัคซีนและการรักษา COVID-19
- ส่งมอบเครื่องแสดงผลอักษรเบรลล์ ส่งมอบเครื่องแสดงผลอักษรเบรลล์ “สหายลิขิต” แก่มูลนิธิธรรมิกชนเพื่อคนตาบอดในประเทศไทย ในพระบรมราชูปถัมภ์
