สถาบันวิจัยแสงซินโครตรอน (องค์การมหาชน)

font size:

Social:

เทคโนโลยี/Beamline ของระบบ/Beamline 7.2 W

Beamline 7.2W

Macromolecular Crystallography

Beamline ผังแป้นพิมพ์และ Specification 

BL7.2W เปลี่ยนภาพเป็นผังแป้นพิมพ์

BL72 ผังแป้นพิมพ์.tif

คิด 1 ประยุกต์@item text character set อดคล้องกับแผนผังของ BL7.2W จากแหล่งข่าวกับตัวอย่างไปเก็บตัวอย่าง

ภาพหน้าจอที่จับได้ 2025-11-09210755_edited.jpg

คิดให้ 2 กล่องแสดงรายละเอียดคล้องกับแผนผังของ BL7.2W แสดงส่วนประกอบประจำตำแหน่งและ distances.

ผู้พัน beamline ส่วนประกอบรวม cylindrical collimating กระจก(CM)เป็นสองคริสตัล monochromator(DCM)และ toroidal อต้องพุ่งไปที่กระจก(FM)อย่างที่แสดงในลัก 1 และ 2. CM เป็น collimating กระจก collimates พวกไวท์วอนลำแสงจากด้านหน้า-สิ้นสุดเป็นระยะห่างจากแหล่งข่าวเป็น 9700 อืม CM เป็น cylindrical กระจก(R=5,542,870 ม.ม.)เคลือบกับ Rh/พ้อยนต์. ที่ grazing มุมก็ปรับตัวเข้ากับเป็น 3.5 mrad. FM เป็นต้องพุ่งไปที่ธาตุ,ดังนั้นยืนยันว่าเพื่ออนุญาตให้ยกร้องของกระจกหน้าลงไปที่พื้น ระยะห่างจากแหล่งที่ต้อง FM คือ 20000 ดออืม ตัวอย่างตำแหน่งเป็นสนแต่เรื่องที่มีอยู่ hutch และเป็นผู้ถูกเลือกเป็นที่ 30,000 อืมจากแหล่งที่มา FM มันเป็น toroidal กระจก(R=5,714,297 อือและสเปนเซอร์รี้ดครับ r=46.7 ม.ม.). จาก meridional และ sagittal สนใจคำพูดที่มุมขอสรุปอัตราการเกิดขึ้นเป็นพบจะเป็น 89.799 ข้อหรือมพล่ามคำเชยๆออกมาไม่หยุดเพื่อที่ grazing มุมมองของ 3.5 mrad. โฆษณา DCM จาก Kohzu;รุ่น TSR-2DCM,ดังนั้นรับเลี้ยงสองกล้องขั้นสำหรับหลัก theta กษะการเคลื่อนไหวที่จะรักษาซ่อม-ทางออกไหม

👉มากกข้อมูลเกี่ยวกับ beamline specification ถูกตีพิมพ์: 

Songsiriritthigul,C et องอาล (2023). การแสดงของโคร-บีมเอ็กซ์-เรย์ตัวเลือกการไล่ระดับสี spectroscopy ที่ beamline 7.2 W ของ Synchrotron แสงสถาบันวิจัย. รังสีด้านฟิสิกส์และวงของเคมีล้วนๆ
DOI: 10.1016/เจนนี่radphyschem.2023.110768

BL7.2W Specification

Source Type6.5-Tesla Superconducting Wavelength Shifter (SWLS)
Photon Energy4.0–22.7 keV (3.10-0.55 Å)
OpticCylindrical Collimating Mirror (Rh/Pt coated)
Fixed Exit Double Crystal Si(111) Monochromator
Toroidal Focusing Mirror (Rh/Pt coated)
Polycapillary lens
Photon Flux1.40 x 10¹¹ phs/s/100mA @10 keV at XAS/XRF station
5.30 x 10⁹ phs/s/100mA @13.035 keV at TXRF station
1.57 x 10⁸ phs/s/100mA @10 keV at micro-XAS/XRF station
Beam size3 mm (H) x 2 mm (V) at XAS station
4.2 mm (H) x 2 mm (V) at XRF station
3 mm (W) x 20 µm (D) of typical beam size for TXRF station
20 µm for micro-XAS/XRF station @12 keV
Beam Divergence0.27 mrad (H) x 0.04 mrad (V)