การสกัดแบบเปียก (Wet etching)

          การสกัดเป็นกระบวนการของการนำโลหะหรือวัสดุออกจากพื้นผิวของฐาน (substrate) โดยแบ่งเป็น 2 ประเภท คือ การสกัดแบบแห้ง (Dry etching) ซึ่งเป็นกระบวนการสกัดด้วยพลาสมาโดยใช้ปฏิกิริยาของแก๊สในสถานะพลาสมามาสกัดชั้นวัสดุ และการสกัดแบบเปียก (Wet etching) เป็นการสกัดที่เกี่ยวข้องกับการใช้สารเคมีที่เป็นของเหลวเพื่อทำให้ชั้นวัสดุหลุดออกจากพื้นผิว ในที่นี้จะกล่าวถึงเฉพาะการสกัดแบบเปียกเท่านั้น ซึ่งข้อดีของกระบวนการสกัดแบบเปียกคือใช้อุปกรณ์ที่ไม่ซับซ้อน และมีอัตราการสกัดสูง แต่อย่างไรก็ตาม การสกัดแบบเปียกยังมีข้อด้อยให้เห็นอยู่บ้าง โดยการสกัดแบบเปียกที่มีลักษณะเป็นแบบไอโซโทรปิกส่งผลให้สารเคมีกัดกรดสามารถสกัดพื้นผิวภายใต้หน้ากากที่กั้นได้ (under-etching) อีกทั้งการสกัดแบบเปียกต้องใช้สารเคมีจำนวนมากจึงทำให้เกิดต้นทุนในการดำเนินงานค่อนข้างสูง

 

wet etching

กระบวนการสกัดทางเคมีแบบเปียก (wet etching) การล้างโลหะที่เกิดจากการแข็งตัวโดยหน้ากากกั้นแสง

Attachments:
Download this file (Etching v.1.pdf)Etching v.1.pdf189 kB547 Downloads

POWERPOINT TEMPLATE 06

Go to top