การทำความสะอาด (Cleaning)

          วิธีการทำความสะอาดพื้นผิวของตัวอย่างสามารถแบ่งออกเป็น 2 วิธี คือ การทำความสะอาดแบบเปียก (Wet Cleaning) เป็นการทำความสะอาดโดยใช้ของเหลว เช่น น้ำ สารเคมีต่างๆ ส่วนการทำความสะอาดแบบแห้ง (Dry Cleaning) เป็นการทำความสะอาดเพื่อกำจัดสิ่งสกปรกหรือสิ่งแปลกปลอมที่ไม่ต้องการออกไปโดยไม่ใช้น้ำ ซึ่งในส่วนของห้องปฏิบัติการ Microsystems และห้องปฏิบัติการสะอาด (clean room) ณ ระบบลำเลียงแสง 6: Deep X-ray Lithography สถาบันวิจัยแสงซินโครตรอน (องค์การมหาชน) ปัจจุบันได้รองรับการทำงานในส่วนของการทำความสะอาดพื้นผิวของตัวอย่างทั้งแบบเปียกและแบบแห้ง ดังนี้ (อ่านข้อมูลเพิ่มเติมได้ดังเอกสารแนบ)

 

 

[1]          Ankur Verma, On the Substrate Cleaning and Related Issues, Assistant Professor

              at Indian Institute of Technology (2009).

[2]          Poco Graphite, Cleaning Recommendations, Machined Graphite Parts (2014).

[3]         Jose Moran-Mirabal, Piranha Cleaning-Glass Surfaces, Moran-Mirabal Research

             Group (2014).

Attachments:
Download this file (1_Technical-report-glass-preparation.pdf)1_Technical-report-glass-preparation.pdf209 kB665 Downloads
Download this file (2_Technical-report-Si-wafer-preparation.pdf)2_Technical-report-Si-wafer-preparation.pdf289 kB837 Downloads
Download this file (3_Technical-report-Graphite.pdf)3_Technical-report-Graphite.pdf166 kB322 Downloads
Download this file (4_Technical-report-Metal-wire.docx.pdf)4_Technical-report-Metal-wire.docx.pdf102 kB437 Downloads
Download this file (5_Technical-report-Plasma-cleaning.docx.pdf)5_Technical-report-Plasma-cleaning.docx.pdf107 kB464 Downloads