ระบบสถานีทดลอง Photoemission electron microscopy หรือ PEEM นั้นได้ให้ถูกให้บริการแก่นักวิจัยในหลากหลายสาขาวิชาจากหลายประเทศ โดยการทดลองส่วนใหญ่นั้นจะเน้นการสังเกตการเปลี่ยนแปลงบนพื้นผิวของวัสดุภายใต้สภาวะต่าง ๆ ในแบบเรียลไทม์โดยทำการวัดด้วยแสงซินโครตรอนและถ่ายภาพด้วยลำอิเลคตรอนพลังงานต่ำแบบ In-situ จึงได้มีการติดตั้งระบบที่ใช้เพื่อการทดลองโดยในปีที่ผ่านมาสถานีทดลอง PEEM สามารถทำการวัดและถ่ายภาพตัวอย่างภายในระบบสุญญากาศที่มีการติดตั้งระบบก๊าซชนิดต่าง ๆ มากถึง 5 ชนิดเข้ากับระบบห้องวิเคราะห์ เพื่อศึกษาการเกิดปฏิกิริยาบนผิวของตัวเร่งปฏิกิริยาที่เป็นผลึกเดี่ยวของโลหะเช่น Ruthenium หรือ Nickel ทำให้เกิดกระบวนการ Chemical vapor deposition เพื่อสร้างเป็นสารวัสดุสองมิติ (2D materials) จำพวก Graphene และ Hexagonal boron nitride ที่มีความสมบูรณ์ในเชิงผลึกได้ ระบบสถานีทดลองสามารถบันทึกภาพการเกิดวัสดุเหล่านี้ในแบบเรียลไทม์ด้วยกำลังขยายสูงมีความละเอียดในระดับนาโนเมตร นอกจากนี้ระบบสถานีทดลองได้ติดตั้ง Mini electron-beam evaporator เข้ากับระบบห้องวิเคราะห์เพื่อให้สามารถปลูกฟิล์มบางแบบ Molecular beam epitaxy โดยควบคุมการเกิดฟิล์มได้ในระดับจำนวนของชั้นอะตอมได้ในขณะที่ทำการบันทึกภาพไปด้วย โดยมีการปลูกฟิล์มโลหะได้แก่ Copper, Ruthenium และ Tin และยังสามารถทำฟิล์มโลหะสลับชั้นกับสารอินทรีย์เช่น C60 เพื่อศึกษาการเกิดกราฟีนที่อุณหภูมิต่ำกว่าปกติได้ นอกจากนี้ยังมีการเปลี่ยนสมบัติ Work function ของ Graphene โดยอาศัยการ Dope ด้วยโมเลกุลที่ต้องการอิเลคตรอนสูงเช่น F4-TCNQ โดยใช้ Low-temperature evaporator ลงบน Pristine graphene ที่ปลูกบน SiC(0001) ได้